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簡(jiǎn)要描述:微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試系統(tǒng)LEIS370/470結(jié)合了電化學(xué)阻抗EIS技術(shù)和微區(qū)掃描技術(shù),可以的測(cè)試局部微區(qū)的阻抗以及相應(yīng)參數(shù)。
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微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試系統(tǒng)LEIS370/470
微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試系統(tǒng)LEIS370/470
應(yīng)用:
* 薄膜阻抗復(fù)雜成像
* 池生長(zhǎng)介質(zhì)直接成像
* 光點(diǎn)化合反應(yīng)特征化
* 電池
* 傳感器
* 金屬以及合金的鈍化
* 燃料池
* 腐蝕
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